ଲେଜର ଅବଶୋଷଣ ହାର ଏବଂ ଲେଜର ସାମଗ୍ରୀର ପାରସ୍ପରିକ ପଦାର୍ଥର ଅବସ୍ଥାରେ ପରିବର୍ତ୍ତନ |

ଲେଜର ଏବଂ ସାମଗ୍ରୀ ମଧ୍ୟରେ ପାରସ୍ପରିକ କ୍ରିୟା ଅନେକ ଶାରୀରିକ ଘଟଣା ଏବଂ ବ characteristics ଶିଷ୍ଟ୍ୟ ସହିତ ଜଡିତ | ପରବର୍ତ୍ତୀ ତିନୋଟି ଆର୍ଟିକିଲ୍ ଲେଜର ୱେଲଡିଂ ପ୍ରକ୍ରିୟା ସହିତ ଜଡିତ ତିନୋଟି ପ୍ରମୁଖ ଶାରୀରିକ ଘଟଣାକୁ ଉପସ୍ଥାପନ କରିବ ଯାହା ସହକର୍ମୀଙ୍କୁ ଏକ ସ୍ପଷ୍ଟ ବୁ understanding ାମଣା ପ୍ରଦାନ କରିବ |ଲେଜର ୱେଲଡିଂ ପ୍ରକ୍ରିୟା |: ଲେଜର ଅବଶୋଷଣ ହାର ଏବଂ ରାଜ୍ୟ, ପ୍ଲାଜମା ଏବଂ କିହୋଲ୍ ପ୍ରଭାବରେ ପରିବର୍ତ୍ତନ | ଏଥର, ଆମେ ଲେଜର ସ୍ଥିତିର ପରିବର୍ତ୍ତନ ଏବଂ ଅବଶୋଷଣ ହାର ମଧ୍ୟରେ ସମ୍ପର୍କକୁ ଅପଡେଟ୍ କରିବୁ |

ଲେଜର ଏବଂ ସାମଗ୍ରୀ ମଧ୍ୟରେ ପାରସ୍ପରିକ କ୍ରିୟା ହେତୁ ପଦାର୍ଥର ସ୍ଥିତିରେ ପରିବର୍ତ୍ତନ |

ଧାତୁ ସାମଗ୍ରୀର ଲେଜର ପ୍ରକ୍ରିୟାକରଣ ମୁଖ୍ୟତ phot ଫଟୋଗ୍ରାଫ୍ ପ୍ରଭାବର ତାପଜ ପ୍ରକ୍ରିୟାକରଣ ଉପରେ ଆଧାରିତ | ଯେତେବେଳେ ବସ୍ତୁ ପୃଷ୍ଠରେ ଲେଜର ବିକିରଣ ପ୍ରୟୋଗ କରାଯାଏ, ବିଭିନ୍ନ ଶକ୍ତି ସାନ୍ଧ୍ରତାରେ ପଦାର୍ଥର ଭୂପୃଷ୍ଠରେ ବିଭିନ୍ନ ପରିବର୍ତ୍ତନ ଘଟିବ | ଏହି ପରିବର୍ତ୍ତନଗୁଡ଼ିକରେ ଭୂପୃଷ୍ଠର ତାପମାତ୍ରା ବୃଦ୍ଧି, ତରଳିବା, ବାଷ୍ପୀକରଣ, କିହୋଲ ଗଠନ ଏବଂ ପ୍ଲାଜମା ଉତ୍ପାଦନ ଅନ୍ତର୍ଭୁକ୍ତ | ଅଧିକନ୍ତୁ, ବସ୍ତୁ ପୃଷ୍ଠର ଭ physical ତିକ ସ୍ଥିତିର ପରିବର୍ତ୍ତନ ଲେଜରର ପଦାର୍ଥର ଅବଶୋଷଣକୁ ବହୁତ ପ୍ରଭାବିତ କରିଥାଏ | ଶକ୍ତି ସାନ୍ଧ୍ରତା ଏବଂ କାର୍ଯ୍ୟ ସମୟ ବୃଦ୍ଧି ସହିତ, ଧାତୁ ପଦାର୍ଥ ରାଜ୍ୟରେ ନିମ୍ନଲିଖିତ ପରିବର୍ତ୍ତନଗୁଡିକ କରିବ:

ଯେତେବେଳେଲେଜର ଶକ୍ତି |ଘନତା କମ୍ (<10 ^ 4w / cm ^ 2) ଏବଂ ବିକିରଣ ସମୟ ସ୍ୱଳ୍ପ, ଧାତୁ ଦ୍ୱାରା ଶୋଷିତ ଲେଜର ଶକ୍ତି କେବଳ ପଦାର୍ଥର ତାପମାତ୍ରା ଭୂପୃଷ୍ଠରୁ ଭିତର ପର୍ଯ୍ୟନ୍ତ ବ cause ାଇପାରେ, କିନ୍ତୁ କଠିନ ପର୍ଯ୍ୟାୟ ଅପରିବର୍ତ୍ତିତ ରହିଥାଏ | । ଏହା ମୁଖ୍ୟତ part ଅଂଶ ଆନ୍ଲିଙ୍ଗ୍ ଏବଂ ଫେଜ୍ ଟ୍ରାନ୍ସଫର୍ମେସନ୍ କଠିନ ଚିକିତ୍ସା ପାଇଁ ବ୍ୟବହୃତ ହୁଏ, ସାଧନ, ଗିଅର୍, ଏବଂ ବିୟରିଂଗୁଡିକ ସଂଖ୍ୟାଗରିଷ୍ଠତା ସହିତ |

ଲେଜର ଶକ୍ତି ସାନ୍ଧ୍ରତା (10 ^ 4-10 ^ 6w / cm ^ 2) ଏବଂ ବିକିରଣ ସମୟର ବୃଦ୍ଧି ସହିତ ପଦାର୍ଥର ପୃଷ୍ଠ ଧୀରେ ଧୀରେ ତରଳିଯାଏ | ଯେହେତୁ ଇନପୁଟ୍ ଶକ୍ତି ବ increases େ, ତରଳ-କଠିନ ଇଣ୍ଟରଫେସ୍ ଧୀରେ ଧୀରେ ପଦାର୍ଥର ଗଭୀର ଅଂଶ ଆଡକୁ ଗତି କରେ | ଏହି ଭ physical ତିକ ପ୍ରକ୍ରିୟା ମୁଖ୍ୟତ surface ଭୂପୃଷ୍ଠ ରିମେଲିଂ, ଆଲୋଇଙ୍ଗ୍, କ୍ଲାଡିଂ ଏବଂ ଧାତୁର ତାପଜ କଣ୍ଡକ୍ଟିଭିଟି ୱେଲଡିଂ ପାଇଁ ବ୍ୟବହୃତ ହୁଏ |

ଶକ୍ତି ସାନ୍ଧ୍ରତା (> 10 ^ 6w / cm ^ 2) କୁ ଆହୁରି ବ increasing ାଇ ଏବଂ ଲେଜର କ୍ରିୟା ସମୟକୁ ବ ing ାଇ, ପଦାର୍ଥ ପୃଷ୍ଠ କେବଳ ତରଳିଯାଏ ନାହିଁ କିନ୍ତୁ ବାଷ୍ପୀଭୂତ ହୁଏ, ଏବଂ ବାଷ୍ପୀଭୂତ ପଦାର୍ଥଗୁଡ଼ିକ ପଦାର୍ଥ ପୃଷ୍ଠ ନିକଟରେ ଏକତ୍ରିତ ହୋଇ ଏକ ପ୍ଲାଜମା ସୃଷ୍ଟି କରିବାକୁ ଦୁର୍ବଳ ଭାବରେ ଆୟନାଇଜ୍ ହୁଏ | ଏହି ପତଳା ପ୍ଲାଜମା ପଦାର୍ଥକୁ ଲେଜରକୁ ଅବଶୋଷଣ କରିବାରେ ସାହାଯ୍ୟ କରେ | ବାଷ୍ପୀକରଣ ଏବଂ ବିସ୍ତାରର ଚାପରେ, ତରଳ ପୃଷ୍ଠଟି ବିକୃତ ହୋଇ ଗର୍ତ୍ତ ସୃଷ୍ଟି କରେ | ଏହି ପର୍ଯ୍ୟାୟଟି ଲେଜର ୱେଲଡିଂ ପାଇଁ ବ୍ୟବହୃତ ହୋଇପାରେ, ସାଧାରଣତ 0.5 mm। Mm ମିମି ମଧ୍ୟରେ ମାଇକ୍ରୋ ସଂଯୋଗର ଥର୍ମାଲ୍ କଣ୍ଡକ୍ଟିଭିଟି ୱେଲଡିଂରେ |

ଶକ୍ତି ସାନ୍ଧ୍ରତା (> 10 ^ 7w / cm ^ 2) କୁ ଆହୁରି ବ increasing ାଇ ଏବଂ ବିକିରଣ ସମୟକୁ ବ ing ାଇ, ପଦାର୍ଥ ପୃଷ୍ଠ ଦୃ strong ବାଷ୍ପୀକରଣ କରେ, ଉଚ୍ଚ ଆୟନାଇଜେସନ୍ ଡିଗ୍ରୀ ସହିତ ଏକ ପ୍ଲାଜମା ସୃଷ୍ଟି କରେ | ଏହି ଘନ ପ୍ଲାଜାର ଲେଜର ଉପରେ ield ାଲା ପ୍ରଭାବ ପକାଇଥାଏ, ଯାହା ଲେଜର ଘଟଣାର ଶକ୍ତି ସାନ୍ଦ୍ରତାକୁ ପଦାର୍ଥରେ ବହୁ ମାତ୍ରାରେ ହ୍ରାସ କରିଥାଏ | ସେହି ସମୟରେ, ଏକ ବୃହତ ବାଷ୍ପ ପ୍ରତିକ୍ରିୟା ଶକ୍ତି ଅଧୀନରେ, ଛୋଟ ଗର୍ତ୍ତଗୁଡିକ, ସାଧାରଣତ key କିହୋଲ୍ ଭାବରେ ଜଣାଶୁଣା, ତରଳାଯାଇଥିବା ଧାତୁ ମଧ୍ୟରେ ସୃଷ୍ଟି ହୁଏ, ଲେଜର ଶୋଷିବା ପାଇଁ ପଦାର୍ଥ ପାଇଁ କିହୋଲଗୁଡିକର ଉପସ୍ଥିତି ଉପକାରୀ, ଏବଂ ଏହି ପର୍ଯ୍ୟାୟଟି ଲେଜର ଗଭୀର ଫ୍ୟୁଜନ୍ ପାଇଁ ବ୍ୟବହୃତ ହୋଇପାରେ | ୱେଲଡିଂ, କାଟିବା ଏବଂ ଡ୍ରିଲିଂ, ପ୍ରଭାବ କଠିନତା ଇତ୍ୟାଦି |

ବିଭିନ୍ନ ପରିସ୍ଥିତିରେ, ବିଭିନ୍ନ ଧାତୁ ସାମଗ୍ରୀ ଉପରେ ଲେଜର ବିକିରଣର ବିଭିନ୍ନ ତରଙ୍ଗଦ eng ର୍ଘ୍ୟ ପ୍ରତ୍ୟେକ ପର୍ଯ୍ୟାୟରେ ଶକ୍ତି ସାନ୍ଧ୍ରତାର ନିର୍ଦ୍ଦିଷ୍ଟ ମୂଲ୍ୟ ସୃଷ୍ଟି କରିବ |

ସାମଗ୍ରୀ ଦ୍ୱାରା ଲେଜରର ଅବଶୋଷଣ ଦୃଷ୍ଟିରୁ, ସାମଗ୍ରୀର ବାଷ୍ପୀକରଣ ଏକ ସୀମା ଅଟେ | ଯେତେବେଳେ ପଦାର୍ଥ ବାଷ୍ପୀକରଣ ହୁଏ ନାହିଁ, କଠିନ କିମ୍ବା ତରଳ ପର୍ଯ୍ୟାୟରେ, ଲେଜରର ଅବଶୋଷଣ କେବଳ ଭୂପୃଷ୍ଠର ତାପମାତ୍ରା ବୃଦ୍ଧି ସହିତ ଧୀରେ ଧୀରେ ବଦଳିଯାଏ | ଥରେ ପଦାର୍ଥ ବାଷ୍ପୀଭୂତ ହୋଇ ପ୍ଲାଜମା ଏବଂ କିହୋଲ ଗଠନ କଲା ପରେ ଲେଜରର ପଦାର୍ଥର ଅବଶୋଷଣ ହଠାତ୍ ବଦଳିଯିବ |

ଚିତ୍ର 2 ରେ ଦେଖାଯାଇଥିବା ପରି, ଲେଜର ୱେଲଡିଂ ସମୟରେ ପଦାର୍ଥ ପୃଷ୍ଠରେ ଲେଜରର ଅବଶୋଷଣ ହାର ଲେଜର ଶକ୍ତି ସାନ୍ଧ୍ରତା ଏବଂ ପଦାର୍ଥ ପୃଷ୍ଠର ତାପମାତ୍ରା ସହିତ ଭିନ୍ନ ହୋଇଥାଏ | ଯେତେବେଳେ ପଦାର୍ଥ ତରଳାଯାଏ ନାହିଁ, ପଦାର୍ଥର ଅବଶୋଷଣ ହାର ଲେଜରରେ ପଦାର୍ଥର ତାପମାତ୍ରା ବୃଦ୍ଧି ସହିତ ଧୀରେ ଧୀରେ ବ increases େ | ଯେତେବେଳେ ଶକ୍ତି ସାନ୍ଧ୍ରତା (10 ^ 6w / cm ^ 2) ଠାରୁ ଅଧିକ, ପଦାର୍ଥ ହିଂସାତ୍ମକ ଭାବରେ ବାଷ୍ପୀଭୂତ ହୋଇ ଏକ ଚାବି ସୃଷ୍ଟି କରେ | ଏକାଧିକ ପ୍ରତିଫଳନ ଏବଂ ଅବଶୋଷଣ ପାଇଁ ଲେଜର କିହୋଲରେ ପ୍ରବେଶ କରେ, ଫଳସ୍ୱରୂପ ଲେଜରରେ ପଦାର୍ଥର ଅବଶୋଷଣ ହାରରେ ଯଥେଷ୍ଟ ବୃଦ୍ଧି ଏବଂ ତରଳିବା ଗଭୀରତାରେ ଏକ ମହତ୍ତ୍ୱପୂର୍ଣ୍ଣ ବୃଦ୍ଧି ଘଟିଥାଏ |

ଧାତୁ ସାମଗ୍ରୀ ଦ୍ୱାରା ଲେଜରର ଅବଶୋଷଣ - ତରଙ୍ଗଦ eng ର୍ଘ୍ୟ |

ଉପରୋକ୍ତ ଚିତ୍ରଟି କୋଠରୀ ତାପମାତ୍ରାରେ ସାଧାରଣତ used ବ୍ୟବହୃତ ଧାତୁର ପ୍ରତିଫଳନ, ଅବଶୋଷଣ ଏବଂ ତରଙ୍ଗଦ eng ର୍ଘ୍ୟ ମଧ୍ୟରେ ସମ୍ପର୍କ ବକ୍ରକୁ ଦର୍ଶାଏ | ଇନଫ୍ରାଡ୍ ଅଞ୍ଚଳରେ, ଅବଶୋଷଣ ହାର କମିଯାଏ ଏବଂ ତରଙ୍ଗଦ eng ର୍ଘ୍ୟର ବୃଦ୍ଧି ସହିତ ପ୍ରତିଫଳନ ବ increases ିଥାଏ | ଅଧିକାଂଶ ଧାତୁ 10.6um (CO2) ତରଙ୍ଗଦ eng ର୍ଘ୍ୟ ଇନଫ୍ରାଡ୍ ଆଲୋକକୁ ଦୃ strongly ଭାବରେ ପ୍ରତିଫଳିତ କରୁଥିବାବେଳେ ଦୁର୍ବଳ ଭାବରେ 1.06um (1060nm) ତରଙ୍ଗଦ eng ର୍ଘ୍ୟ ଇନଫ୍ରାଡ୍ ଆଲୋକ ପ୍ରତିଫଳିତ କରିଥାଏ | ଧାତୁ ସାମଗ୍ରୀର କ୍ଷୁଦ୍ର ତରଙ୍ଗଦ eng ର୍ଘ୍ୟ ଲେଜର ପାଇଁ ଅଧିକ ଅବଶୋଷଣ ହାର ଅଛି, ଯେପରିକି ନୀଳ ଏବଂ ସବୁଜ ଆଲୋକ |

ଧାତୁ ସାମଗ୍ରୀ ଦ୍ୱାରା ଲେଜରର ଅବଶୋଷଣ - ସାମଗ୍ରୀର ତାପମାତ୍ରା ଏବଂ ଲେଜର ଶକ୍ତି ସାନ୍ଧ୍ରତା |

ଏକ ଉଦାହରଣ ଭାବରେ ଆଲୁମିନିୟମ୍ ମିଶ୍ରଣକୁ ଗ୍ରହଣ କରିବା, ଯେତେବେଳେ ପଦାର୍ଥ ଦୃ solid ହୁଏ, ଲେଜର ଅବଶୋଷଣ ହାର ପ୍ରାୟ 5-7%, ତରଳ ଅବଶୋଷଣ ହାର 25-35% ପର୍ଯ୍ୟନ୍ତ, ଏବଂ ଏହା କିହୋଲ୍ ଅବସ୍ଥାରେ 90% ରୁ ଅଧିକ ହୋଇପାରେ |

ଲେଜର ସହିତ ପଦାର୍ଥର ଅବଶୋଷଣ ହାର ତାପମାତ୍ରା ବୃଦ୍ଧି ସହିତ ବ increases େ | କୋଠରୀ ତାପମାତ୍ରାରେ ଧାତୁ ସାମଗ୍ରୀର ଅବଶୋଷଣ ହାର ବହୁତ କମ୍ ଅଟେ | ଯେତେବେଳେ ତାପମାତ୍ରା ତରଳିବା ପଏଣ୍ଟ ନିକଟରେ ପହଞ୍ଚେ, ଏହାର ଅବଶୋଷଣ ହାର 40% ~ 60% ରେ ପହଞ୍ଚିପାରେ | ଯଦି ତାପମାତ୍ରା ଫୁଟିବା ସ୍ଥାନ ନିକଟରେ ଥାଏ, ତେବେ ଏହାର ଅବଶୋଷଣ ହାର 90% ପର୍ଯ୍ୟନ୍ତ ପହଞ୍ଚିପାରେ |

ଧାତୁ ସାମଗ୍ରୀ ଦ୍ୱାରା ଲେଜରର ଅବଶୋଷଣ - ଭୂପୃଷ୍ଠ ସ୍ଥିତି |

ପାରମ୍ପାରିକ ଅବଶୋଷଣ ହାର ଏକ ସୁଗମ ଧାତୁ ପୃଷ୍ଠ ବ୍ୟବହାର କରି ମାପ କରାଯାଏ, କିନ୍ତୁ ଲେଜର ଉତ୍ତାପର ବ୍ୟବହାରିକ ପ୍ରୟୋଗରେ, ଉଚ୍ଚ ପ୍ରତିଫଳନ ଦ୍ false ାରା ମିଥ୍ୟା ସୋଲଡିଂକୁ ଏଡାଇବା ପାଇଁ ସାଧାରଣତ certain କେତେକ ଉଚ୍ଚ ପ୍ରତିଫଳନ ସାମଗ୍ରୀ (ଆଲୁମିନିୟମ୍, ତମ୍ବା) ର ଅବଶୋଷଣ ହାର ବୃଦ୍ଧି କରିବା ଆବଶ୍ୟକ ହୁଏ |

ନିମ୍ନଲିଖିତ ପଦ୍ଧତିଗୁଡ଼ିକ ବ୍ୟବହାର କରାଯାଇପାରିବ:

ଲେଜରର ପ୍ରତିଫଳନକୁ ଉନ୍ନତ କରିବା ପାଇଁ ଉପଯୁକ୍ତ ଭୂପୃଷ୍ଠ ପ୍ରି-ଟ୍ରିଟମେଣ୍ଟ ପ୍ରକ୍ରିୟା ଗ୍ରହଣ କରିବା: ପ୍ରୋଟୋଟାଇପ୍ ଅକ୍ସିଡେସନ୍, ସ୍ୟାଣ୍ଡବ୍ଲାଷ୍ଟିଙ୍ଗ୍, ଲେଜର ସଫା କରିବା, ନିକେଲ୍ ପ୍ଲେଟିଂ, ଟିଫିନ୍ ପ୍ଲେଟିଂ, ଗ୍ରାଫାଇଟ୍ ଆବରଣ ଇତ୍ୟାଦି ଲେଜରର ପଦାର୍ଥର ଅବଶୋଷଣ ହାରରେ ଉନ୍ନତି ଆଣିପାରେ |

ମୂଳ ହେଉଛି ବସ୍ତୁ ପୃଷ୍ଠର ରୁଗ୍ଣତା ବୃଦ୍ଧି କରିବା (ଯାହା ଏକାଧିକ ଲେଜର ପ୍ରତିଫଳନ ଏବଂ ଅବଶୋଷଣ ପାଇଁ ଅନୁକୂଳ), ଏବଂ ଉଚ୍ଚ ଅବଶୋଷଣ ହାର ସହିତ ଆବରଣ ସାମଗ୍ରୀକୁ ବୃଦ୍ଧି କରିବା | ଲେଜର ଶକ୍ତି ଅବଶୋଷଣ କରି ତରଳିବା ଏବଂ ଉଚ୍ଚ ଅବଶୋଷଣ ହାର ସାମଗ୍ରୀ ମାଧ୍ୟମରେ ଏହାକୁ ଅସ୍ଥିର କରି, ଲେଜର ଉତ୍ତାପକୁ ପଦାର୍ଥ ଅବଶୋଷଣ ହାରରେ ଉନ୍ନତି ଆଣିବା ଏବଂ ଉଚ୍ଚ ପ୍ରତିଫଳନ ଘଟଣା ଦ୍ caused ାରା ସୃଷ୍ଟି ହୋଇଥିବା ଭର୍ଚୁଆଲ୍ ୱେଲଡିଂକୁ ହ୍ରାସ କରିବା ପାଇଁ ମୂଳ ପଦାର୍ଥକୁ ପଠାଯାଏ |